低压化学气相沉积（LPCVD）

低压化学气相沉积（LPCVD）

      是通过真空泵维持反应室压强低于0.1兆帕的沉积技术，属于热能激活型化学气相沉积。其低压环境使气体扩散系数提升，形成均匀性更优的膜层，适用于单晶硅薄膜、碳化硅硬质膜等材料的制备。与等离子体增强化学气相沉积相比，该技术工艺温度更高（425-900°C），具有阶梯覆盖性强的特性。