常压化学气相沉积（APCVD）

常压化学气相沉积（APCVD）

      是基于化学气相沉积技术体系的重要分支方法，按照反应环境压力标准被归类为常压级别沉积工艺。该方法在常规大气压力条件下运行，具有沉积工艺参数易控制、重复性好的技术特征，尤其适合批量生产场景的应用需求。与低压化学气相沉积（LPCVD）相比，APCVD在相同反应体系下所需工艺温度相对较低，这种压力与温度的负相关特性为薄膜制备提供了更灵活的参数调控空间。